纳米混悬液研磨均质分散机，制药行业混悬液纳米均质机，高剪切均质法均质机，超微分散型均质机，德国管线式医药均质机，小型多功能均质机，立式高剪切混悬液纳米均质机
纳米混悬液是以表面活性剂或(和)高分子聚合物为稳定剂，将药物颗粒分散在水中，通过自组装技术或者破碎技术制备的一种亚微胶体分散系。与其他的纳米制剂相比，纳米混悬制剂不需要任何载体材料，仅需要少量稳定剂即可实现大量药物纳米化，具有载药量高、粒径小、比表面积大、对生物膜粘附性强、不易被清除、能够提高难溶性药物的生物利用度等优势。
纳米混悬液常用的制备方法有多种，其中，以将药物颗粒由大到小的破碎技术(如研磨、高压均质、微射流等)最为常用。在破碎前，一般先将药物、稳定剂分散/溶解于水相，即对药物和稳定剂进行前处理。然而，分散过程中强烈的搅拌、剪切作用会使一些药物、稳定剂产生大量的泡沫，且泡沫会在破碎过程(研磨、高压均质、微射流等)中增多，进而阻碍破碎过程的进行。
IKN研磨均质分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势，如纳米氢氧化镁、纳米氢氧化铝、石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。
在制药行业中，亚微乳、脂质体以及混悬剂一般均可采用高剪切均质法制备，以高剪切均质法制备药物的纳米混悬液，制备时转速一般在10000rpm左右；均质次数一般在10-20次不等，或者可以采取循环处理的方式进行制备。上海依肯高剪切均质机采用高速剪切的方式对药物进行剪切、细化、均质、分散，以及其他作用力，如：碰撞、湍流、离心挤压、液层摩擦等。是一个综合作用力来实现药物的chong分均质，从而获得超细的物料粒径。沈阳、天津、山东、上海、白云山、广州、湖南、江苏等多家之名药企均采用我司设备，持久耐用，已回购多台，详情请接洽上海依肯林万翠
应用范围应用在化妆品乳剂以及胶浆等任和需要搅拌、均质、粉碎、悬浮和溶解的过程。如下所示：混合：糖浆、香波、洗涤液、果汁浓缩液、酸奶、甜点、混合奶制品、油墨、瓷釉。分散混合：甲基纤维素溶解、胶质体溶解、碳化物溶解、油水乳化，预混合、调味料生产、稳定剂溶解、烟尘、盐、氧化铝、农药。分散：悬浮液、药丸包衣、药物解聚、涂料分散、唇膏、蔬菜浓汤、芥末混合物、催化剂、消光剂、金属、颜料、改性沥青、纳米材料的制备和解聚。
纳米混悬液研磨均质分散机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
| 1、 在高速旋转的转子产生的离心力作用下，图中的物料从工作头的上进料区域同时从轴向吸入工作腔。 |
2、强劲的离心力将物料从径向甩入定、转子之间狭窄精密的间隙中。同时受到离心挤压、撞击等作用力，使物料初步分散乳化。 |
3、在高速旋转的转子外端产生至少15m/s以上的线速度，最高可至40m/s，并形成强烈的机械及液力剪切、液层摩擦、撞击撕裂，使物料充分的分散、乳化、均质、破碎、同时通过从径向喷射出来。经过一次处理或循环处理后最终完成分散、乳化、均质过程。 |
|
|
|
设备结构：
第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
IKN管线式研磨均质机的技术参数：
|
研磨均质机 |
|
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
|
|
类型 |
|
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
|
CMD 2000/4 |
|
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
|
|
CMD 2000/5 |
|
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
|
|
CMD 2000/10 |
|
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
|
|
CMD 2000/20 |
|
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
|
|
CMD 2000/30 |
|
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
|
|
CMD 2000/50 |
|
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
|
|
|
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
||||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。纳米混悬液研磨均质分散机，制药行业混悬液纳米均质机，高剪切均质法均质机，超微分散型均质机，德国管线式医药均质机，小型多功能均质机，立式高剪切混悬液纳米均质机