极限真空：1e-7torr 产品描述：等离子体增强化学气相沉积系统 ......
等离子体增强化学气相沉积系统 产品详情
等离子体增强化学气相沉积系统
pecvd：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上可达8路mfc和多样化的气体选择；
均匀性：≤±3%；
预抽真空室和自动晶片装卸门；
全自动控制；
应用领域：
等离子诱导表面改性；
等离子清洗；
等离子聚合；
sio2, si3n4, dlc及其它薄膜；
碳纳米管(cnt)的选择性生长。