| 加工定制是 | 品牌湖南艾普德 |
| 类型真空炉 | 型号APD-KGPS |
| 别名高温炉 | 适用范围新材料研发 |
| 炉膛最高温度3000℃ | 工作温度2500℃ |
| 装载量2kg |
●用途:
apd-cvd(g)系列真空高温管式炉专门设计用于高温cvd工艺,如zno纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(mlcc)气氛烧结等等。
●特点:
窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,国产优质硅钼棒加热,优质刚玉管炉膛, 系统可预抽真空,气体采用浮子流量计控制。
进口单回路智能温度控制仪控制,设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。
●主要技术参数:
参数名称
单位
kgps -160
kgps -200
kgps -250
kgps -300
kgps -400
坩埚有效容积
(直径×高)
mm
φ200×300
φ400*900
φ500*1050
φ600×1050
φ800×1500
中频电源功率
kw
160
200
250
300
400
中频电源频率
hz
4000
4000
1000
1000
1000
工作温度
℃
3000
3000
3000
3000
3000
极限真空度
pa
6.6×10-3
1.2×10-1
1.2×10-1
1.2×10-1
1.2×10-1
压升率
pa/h
2
2
2
2
2
恒温区温差
℃
±10
±10
±10
±10
±10
