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等离子纳米抛光设备的抛光工艺原理、特性及优势
等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。本公司进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化。
八溢自动化公司主要技术力量拥有二十多年设计经验，一直从事以自动化设备技术开发、制造、改造。是等离子抛光行业的创始人；本公司生产销售等离子电浆抛光设备、超音波清洗机、自动隧道式烤箱、自动布轮抛光倒边机、真空镀膜离子溅射（镀膜机），铝离子抛光设备；自动印刷机、板片分选机、以及des线（显影蚀刻前处理）自动收放料装置，自动化设备设计制造，自动化设备改造，复制！
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