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ofweek电子工程网讯 尼康昨日宣布，已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦（asml）和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司（carl zeiss）提起诉讼，指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。
尼康称，已在荷兰、德国和日本对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称：“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”
当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（fitch ratings）今年1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，阿斯麦的份额高达90%。
尼康在诉讼文件中称，要求阿斯麦和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。
对此，阿斯麦总裁兼ceo彼得·温尼克（peter wennink）称：“尼康的诉讼毫无依据，没有必要，为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称，阿斯麦曾多次试图与尼康谈判，希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。

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