对准曝光机- maskaligner
■特点
■手动操作、接触式对准曝光机。 
■依照不同需求以及成本考量 有准直仪型/多面镜型/整合(积算器)型三种曝光光源。
■有可对应5×5mm～100×100mm以及φ1inch～ 6 inch的基板的各类机种。 
■mask holder载台的更换作业简单易行，可在１分钟内完成，适合用于研究开发。 
■对准显微镜的对物镜可对应高对准精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三种。
■共通规格
接触方法
软性接触/ 硬性接触(部分选配)
对准精度
使用对物镜20×时＜1.2μm(m-1s除外)
对准显微镜
双视野显微镜对物镜间隔18~60mm 
(m-1s除外)
曝光波长
多频率(h．i．g线)
ma系列 半自动型，用于ic少量生产，mems等用途
ma-2lf 高规格型
规格基板尺寸 max 6 inch
mask尺寸
max 7×7 inch
uv灯箱
整合型
照度
 >18mw/cm2
照度均一性
硬性接触
选配
对准点间隔测长功能
不可装配
uv灯累计光量计
不可装配
防震台
配件
外形尺寸(mm)
 1000w×1685h×800d
(包含防震台尺寸)
具体需求请向我司咨询。
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刘忠后
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